玻璃面板超純水設備水質要求：
手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求高，帶電力離子和污垢會對鏡片產生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm（25℃）。
玻璃面板超純水設備技術要求：
光電光學玻璃行業(yè)的超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水，鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上，采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋SMB除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流可靠產品，采用PLC＋觸摸屏控制，全套系統(tǒng)自動化程度高，系統(tǒng)穩(wěn)定性高。
玻璃面板超純水設備標準：
1.研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量（外觀和精度）的重要工序。
2.研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數企業(yè)的加工過程中會有漆片。
3.其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。
4.根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。
5.在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。
6.玻璃研磨過后，需要用超純水進行產品的清洗，以獲得高品質的產品。
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