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新材料超純水設(shè)備

新材料是指新近發(fā)展或正在研發(fā)、性能超群的一些材料,杰邦水處理生產(chǎn)的超純水設(shè)備滿足各種需求的新型材料技術(shù),而新材料加工用超純水設(shè)備正是應(yīng)用于新材料行業(yè)用水需求,保證設(shè)備的出水品質(zhì)。

新材料超純水設(shè)備概述:

新材料是指新近發(fā)展或正在研發(fā)、性能超群的一些材料,杰邦水處理生產(chǎn)的超純水設(shè)備滿足各種需求的新型材料技術(shù),而新材料加工用超純水設(shè)備正是應(yīng)用于新材料行業(yè)用水需求,保證設(shè)備的出水品質(zhì)。


新材料超純水設(shè)備水質(zhì)要求:

磷酸鐵鋰、碳酸鋰、石墨烯、液晶顯示器、微電子、電路板等新材料的生產(chǎn),需要以超純水作為混合溶液,終端水質(zhì)要求在≥15MΩ*cm(25℃)以上。


新材料超純水設(shè)備標(biāo)準(zhǔn):

新材料超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

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